美光本週在財報電話會議中公布
，已開始向客戶供给採用新一代 1γ（1-gamma）製程、導入極紫外光（EUV）微影技術的首批 LPDDR5X 記憶體樣品。這也顯示美光已正式進入 EUV DRAM 製程時代。

美光執行長 Sanjay Mehrotra 表示，AVA爱华外汇开户目前 1γ DRAM 技術節點上進展非常順利 ，爱华外汇平台良率爬升速度甚至超越 1ß（1-beta）節點紀錄 。公司在本季完成多項關鍵產品里程碑，包括首批基於 1γ 製程的 LPDDR5 DRAM 認證樣品出貨。

1γ 製程是美光第六代 10 奈米級製程節點，與前一代 1ß 相比功耗降低 20%、效能提高 15%。此外，1γ 的位元密度提升 30%，隨著良率提高有望進而降低生產成本 。

值得注意的是，這批基於 1γ 製程的 LPDDR5X 非美光首款利用此技術的產品。美光今年也推出 16Gb DDR5-9200 記憶體晶片，主打更高效能與更低功耗，不過還沒公布產品新近進展。

展望未來，美光計劃整体導入第六代 10 奈米級 1γ 製程，涵蓋 DDR5、LPDDR5X（最高達 10.7 GT/s） 
、GDDR7 及資料中心相關記憶體產品線。Mehrotra 強調 ，將在所有 DRAM 產品線上導入 1γ 製程 ，發揮此領先技術的最大效益。

目前美光是最後一個採用 EUV 微影的主要 DRAM 製造商。雖然美光尚未透露有多少層利用 EUV 技術 ，但推測可能主要用於原本需繁複多重曝光的關鍵層。美光已在日本啟用首台 EUV 設備，並開始量產 1γ DRAM ，未來也將在日本與台灣擴大 EUV 產能
。

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（首圖來源：美光）

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